鍍膜機冷卻系統(tǒng)（真空鍍膜冷卻水降溫）工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會產生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無光，所以必須在高真空下才能使結晶體細密光亮，果如真空度不高結晶體就會失去光澤結合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射，結合差工效低光澤差。現在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。

       中頻設備必須加冷卻水，原因是它的頻率高電流大。電流在導體流動時有一個集膚效應，電荷會聚集在電導有表面積，這樣使電導發(fā)熱所以采用中孔管做導體中間加水冷卻。（主要是圓柱靶）為什么也要用水冷卻？磁控濺射靶在發(fā)射時會產生高溫會使射槍變形，所以它有一個水套來冷卻射槍。同時還有一個重要原因磁控濺射可以被認為是鍍膜技術中突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結合力好。從更深層次研究電子在非均勻電磁場中的運動規(guī)律 ,探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場的橫向不均勻性及對稱性是磁約束的本質原因。磁控濺射可以被認為是鍍膜技術中突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結合力好、裝置性能穩(wěn)定。

       真空鍍膜機冷水機是一種水冷卻設備，能提供恒溫、恒流、恒壓的冷卻水設備。其工作原理是先向機內水箱注入一定量的水，通過制冷系統(tǒng)將水冷卻，再由水泵將低溫冷卻水送入需冷卻的設備，冷凍水將熱量帶走后溫度升高再回流到水箱，達到冷卻的作用。冷卻水溫可根據要求自動調節(jié)。 冷水機能控制真空鍍膜機的溫度，以保證鍍件的高質量。如果不配冷水機就不能使真空鍍膜機達到高精度、高效率控制溫度的目的。 

真空鍍膜機在鍍膜的時候，由于真空泵和擴散泵發(fā)熱，所以我們需要使用冷水機冷卻，真空鍍膜機選配冷水機需要注意的幾點：

1、冷水機的水泵壓力需要加大。

2、冷水機水泵，蒸發(fā)器，管路需要使用不銹鋼的；因為真空鍍膜機的載冷劑是純水。