中頻真空鍍膜機一般要配真空鍍膜機冷卻系統作為鍍膜機(主要是圓柱靶)的冷卻設備。那么真空鍍膜機冷卻系統到底對真空鍍膜工藝或者是鍍膜設備有什么作用呢?不配真空鍍膜機冷卻系統會有什么影響呢?我們一起來了解一下。

    鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發的膜體分子會產生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無光，所以要在高真空下才能使結晶體細密光亮，如果真空度不高結晶體就會失去光澤結合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發體自然散射，結合差工效低光澤差。現在采用中頻磁控濺射將膜體的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然蒸發無法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。磁控濺射以濺射率高、基片溫升低、膜基結合力好等優勢，被認為是鍍膜技術中突出的成就之一。

    那么真空濺射鍍膜為什么需要使用真空鍍膜機冷卻系統？中頻設備的頻率高電流大，電流在導體流動時會有集膚效應，電荷會聚集在電導表面積，這樣使電導發熱。所以采用中孔管做導體中間加水冷卻。鍍膜為什么也要用冷水機進行冷卻？因為磁控濺射靶在發射時會產生高溫會使射槍變形，所以它有一個水套用來冷卻射槍。

    真空鍍膜機冷卻系統可以提供恒溫、恒流、恒壓的冷卻水，其工作原理是先向機內水箱注入一定量的水，通過制冷系統將水冷卻，再由水泵將低溫冷卻水送入需冷卻的設備，冷凍水將熱量帶走后溫度升高再回流到水箱，達到冷卻的作用。冷卻水溫可根據要求自動調節，長期使用可節約用水。

    使用自然水和水塔散熱都不可避免地會受到自然氣溫的影響，溫度控制不穩定。真空鍍膜用工業冷水機組具有獨立的制冷系統，水溫可在+5℃～35℃范圍內調節控制，因而可以達到較高精度和效率控制溫度的目的，保證鍍件的產品質量。